中国
目前的差距确实又扩大了，不过摩尔定律已接近极限，这种差距未来很难再大幅拉大。同时，这个差距在相当长的一段时间内也不会缩小，即便以十年为周期来看，可能都还不够。现在国内一些厂商宣称已经能够生产14纳米甚至7纳米芯片，但这些成果很大程度依赖进口设备，并且采用多重曝光技术，这种方式不仅效率低，还导致良品率下降，几乎没有任何经济性可言。换句话说，无论生产多少，都会亏损多少。除了国防领域对成本不敏感的特殊需求外，商业芯片如果按照这种方式制造，售价必须极高才能覆盖成本。但普通消费者真的能负担得起天价的国产IT产品吗？更何况，这些产品的性能还处于较低水平，更多是靠情怀支撑。因此，在未来相当长的一段时间里，
中国在芯片制造设备领域的首要任务，就是把28纳米生产线的国产化率提升到足够可靠的水平。如果国外进一步限制多重曝光技术的应用，
中国甚至连28纳米的生产能力都会失去，直接退回到65纳米时代。总而言之，当前的局面是：国外继续向摩尔定律的极限迈进，而
中国则专注于确保28纳米及以上的生产能力。双方各自努力，短期内目标不太可能改变，未来的十年大概率会延续这样的态势。
