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2020年我国光刻机现在属于什么水平?详细数据,多少纳米?
极客谈科技原创 · 02-29 21:28 · 科技领域创作者订阅“极客谈科技”,全新视角、全新思路,伴你遨游神奇的科技世界。

半导体
整体上来说,我国芯片产业与发达国家确实存在较大的差距,这点是客观存在的事实。因此,美国才会有底气通过芯片以及软件的方式来打压华为与中兴等优秀的科技公司。虽然,华为具备研发高端移动处理器的能力(紫光展锐也宣布了基于6nm EUV工艺的虎贲T7520芯片),但是,依然受制于芯片生产上的限制,真正的原因还在于我国光刻机水平较为落后。
国内能够研发光刻机的公司是上海微电子装备公司,当前该公司最先进的光刻机产品是600系列光刻机。SSX600系列光刻机最高能够实现90nm工艺制程,荷兰的ASML的高端光刻机已经能够实现5nm工艺制程,两者之间的差距相当巨大。
答案是否定的,光刻机内部零部件工艺要求较高,短期内基本上无法实现赶超。例如光刻机较为重要的镜头,ASML公司是从德国的蔡司采购,基本上由蔡司祖传匠人独家打磨,极少能够到达这一标准;除此之外,光刻机对于光源要求同样较高,ASML公司光刻机的光源由美国CYMER公司独家提供,后来为了方便直接收购了这家公司。
除此之外,光刻机的工作台、侵液系统等难度同样较高,暂时国内工艺还达不到此标准。荷兰ASML公司的光刻机,可以看做是世界顶级零部件的集合体,缺一不可!
那么,是否意味着国内只能够生产90nm工艺制程的芯片呢?也非如此,这里就需要讲讲中芯国际这家公司。中芯国际与台积电类似,均属于芯片代工公司。当前中芯国际已经能够实现14nm工艺制程芯片的量产,12nm工艺制程芯片也进入到客户导入环节。中芯国际自研的N+1、N+2芯片已经具备7nm工艺制程的特点,即将在2021年实现量产。也就是说,国内当前最高能够生产性能趋近于7nm工艺制程的芯片。前不久的最新消息,华为交付给中芯国际14nm工艺的首批订单已经开始交货。这无疑是一个好消息,华为过于依赖台积电代工芯片的问题将会有所改善。
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